矽膠製品光鍍是指將金屬(或介質)膜(或多層金屬)鍍在光學零件表麵的工藝過程。光電器件表麵鍍膜的目的是達到減少或增加光的反射性、分束性
、分色性
、濾光性和偏振性等。通常采用的鍍膜方法是真空鍍(物理鍍)和化學鍍。

光塗層原理：

負壓電鍍主要是指需要在較高真空下進行電鍍
，包括真空離子蒸發、磁控濺射、 MBE分子束外延
、 PLD激光濺射沉積等，所以。蒸發器和濺射器通用。用鍍層材料製成基材，用鍍層材料作為靶材或藥材。基體和靶體在同一真空狀態下。

蒸(zheng)發(fa)層(ceng)通(tong)常(chang)是(shi)加(jia)熱(re)的(de)目(mu)標(biao)，將(jiang)表(biao)麵(mian)成(cheng)分(fen)蒸(zheng)發(fa)成(cheng)自(zi)由(you)基(ji)或(huo)離(li)子(zi)
，然(ran)後(hou)通(tong)過(guo)合(he)成(cheng)沉(chen)積(ji)在(zai)基(ji)底(di)上(shang)
，膜(mo)層(ceng)上(shang)。關(guan)於(yu)濺(jian)射(she)塗(tu)層(ceng)
，很(hen)容(rong)易(yi)理(li)解(jie)
，目(mu)標(biao)材(cai)料(liao)被(bei)電(dian)子(zi)或(huo)高(gao)能(neng)激(ji)光(guang)轟(hong)擊(ji)
，表(biao)麵(mian)成(cheng)分(fen)以(yi)自(zi)由(you)基(ji)或(huo)離(li)子(zi)的(de)形(xing)式(shi)濺(jian)射(she)

，最(zui)後(hou)沉(chen)積(ji)在(zai)基(ji)體(ti)表(biao)麵(mian)，形(xing)成(cheng)薄(bo)膜(mo)。

常用光學塗層材料有以下幾種：

無色晶係粉末
，純度高，用它製備光學鍍膜，能提高透光性，不產生崩點。

高熔點

、硬度
、化學穩定性良好的無色透明晶體。采用該工藝製備的優質Si02塗層，具有良好的蒸發狀態
，無崩點。按用途可分為紫外線、紅外線和可見光用。

重質結晶態，折射率高，耐高溫性好
，化學性質穩定，純度高，可製得優質氧化鋯塗層
，無崩點。